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PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600
PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600

参考价格

面议

型号

PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600

品牌

北京泰科诺

产地

北京

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北京泰科诺科技有限公司

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第1年

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设备名称:PVD大面积磁控镀膜设备

设备型号:JCPF2600

镀膜方式:磁控溅射

真空腔室结构:SUS304 方箱式

真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm

极限真空:优于 5.0x10-5Pa

基片台尺寸:300mmx400mm向下兼容300mmx300mm

基片温度:常温

溅射靶:矩形平面靶1套,旋转柱状靶2套

控制方式:PLC/PC 控制 ( 可选 )

占地面积:15000mmx5000mm

供电总功率:≥ 20kW 三相五线制

1. 大面积,复合型,批量制备,洁净真空不同功能复合涂层制备,可获得更高电池转换效率;

2. 广泛应用于钙钛矿空穴传输层及金属背电极等膜层的制备;

3. 技术先进、设计优化,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;


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