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PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600品牌
北京泰科诺产地
北京样本
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设备名称:PVD大面积磁控镀膜设备
设备型号:JCPF2600
镀膜方式:磁控溅射
真空腔室结构:SUS304 方箱式
真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm
极限真空:优于 5.0x10-5Pa
基片台尺寸:300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片温度:常温
溅射靶:矩形平面靶1套,旋转柱状靶2套
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积:15000mmx5000mm
供电总功率:≥ 20kW 三相五线制
1. 大面积,复合型,批量制备,洁净真空不同功能复合涂层制备,可获得更高电池转换效率;
2. 广泛应用于钙钛矿空穴传输层及金属背电极等膜层的制备;
3. 技术先进、设计优化,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
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