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热丝CVD化学气相沉积原理

热丝CVD化学气相沉积原理

热丝CVD采用高温下的低压气相反应,碳氢化合物在高温下发生化学反应,生成膜先驱物,当样品温度合适时,这些膜先驱物在样品表面沉积形成金刚砂膜。低压化学气相沉积形成的膜层厚度及成分较为均匀,膜层致密、/p>

CVD化学气相沉积的基本特征为:

1.产生化学变化(化学反应或热分解);

2.膜中所有材料都来源于外部的溏

3.反应物必须以气相形式参与反应

化学气相沉积是以化学反应方式制作薄膜。其原理是将含有制膜材料的反应气体通到基片上,在基片上发生化学反应形成薄膜,对CVD薄膜生成过程,可以定性地归结为:反应气体通到基片上后,反应气体分子被基片表面吸附,并在基片表面上产生化学反应,形成核,然后反应生成物脱离基片表面,并沿基片表面不断扩散形成薄膜、/p>

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1.真空系统:国产优质真空泵和阀门管道。极限真?pa以下:/p>

2.真空测量:国产优质电阻规?.1-105pa)和薄膜规(13-13300pa)。测量精度高,重复性好:/p>

3.气体流量控制:国产流量计。氢气流?000ml/min,甲烷流?00ml/min。氢气流?0ml(掺硼用)。可根据要求定制流量计、/p>

4.压控系统:压控范?.5-6kpa。控制精度?0pa、/p>

5.热丝电源:国产优质直流电源。根据镀膜产品客户选型号的电源。电源控制精度?0w、/p>

6.控制程序:公司自主开发的镀膜程序。可实现一键镀膜功能。程序对水压,水流,水温,气压等参数进行监控和判断,超过报警值后,程序会停机保护设备、/p>


热丝CVD设备应用领域

热丝cvd金刚石沉积技术适合制备金刚石厚膜和涂层。相较于直流电弧cvd和微波等离子体cvd技术,热丝CVD技术制备的金刚石膜透明性不足,但是该技术镀膜面积大,单炉产量多;设备结构简单,稳定,适合自动化生产、/p>

目前热丝cvd设备可在硬质合金刀具、硅、铌、钽、碳化硅、等材料上镀金刚石膜、/p>

金刚石涂层刀具应用于空航天、新能源、电子电路,精密加工领域,可用于石墨模具,石墨极板,陶瓷牙齿?G线路板,铝合金,碳纤维等的加工制造、/p>

碳化硅上沉积金刚石膜用于提高器件的耐磨性,延长使用时间。用于易磨损的模具、动密封件、/p>

掺硼导电金刚石膜常镀在硅、铌、钽材料上。利用金刚石的高氧化电位、耐酸碱腐蚀等特点,氧化液体中的有害物质,检测液体成分。应用于污水处理,水质净化,生物检测等领域、/p>


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