看了JPLB-X400A-ITO/ISI 连续镀膜生产线的用户又看了
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设备特点
成膜奼采用磁控溅射方式,沉积速率快,膜层均匀致密、内应力導
适用幾适用于多种膜系,工件可选择单面或者双面镀膛/p>
产量?连续稳定的流水线作业,生产节拍快。产量大:/p>
扩展弹整线为立式结构,基础款为四腔佒可增加扩展腔体满足各种工艺要求、/p>
应用领域
适用于镀制TTO、AZ0等透明导电薄膜,以及单质金属Ti、Ag、Cu、Ni、等材料,主要应用于钙钛矿光伏电池板,平板显示,车载玻璃等产品,成膜均匀性高,膜厚稳定性高,速率稳定性高、/p>
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