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型号
NMC 508RIE品牌
北方华创产地
中国样本
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NMC 508RIE为电容耦合等离子体干法刻蚀机,适用6/8英寸介质层刻蚀工艺,具有高刻蚀速率和均匀性,工艺类型覆盖前道和后道所有介质刻蚀。该机台为多腔室集群设备,可全自动并行工艺、易维护、性能稳定、产能高、客户拥有成本低、/span>
设备特点
•多频CCP模式,工艺窗口不
•高刻蚀速率和高刻蚀均匀?/span>
•低拥有成本、低运营成本
产品应用
•晶圆尺寸:6/8 英寸兼容
•适用材料:氧化硅、氮化硅、氮氧化硄/span>
•适应工艺:钝化层、硬掩膜、接触孔、导线孔、侧衬、自对准、回刻等刻蚀
•适用领域:集成电路、化合物半导体、功率半导体、科研领埞/span>
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