制样/消解设备
SD-900M
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SD-900M磁控溅射?/span>
一、核心技术参?/span>
类别 |
参数详情 |
技术说昍/p> |
真空系统 |
极限真空９span style="font-family:'Arial',sans-serif">1Pa |
为溅射过程提供洁净真空环境，保障膜层纯?/p> |
抽真空时间：<3min（达?span style="font-family:'Arial',sans-serif">1Pa（/p> |
抽气效率优异，缩短实验准备周期，提升工作效率 |
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工作压力９span style="font-family:'Arial',sans-serif">7Pa-20Pa |
压力范围适配多种溅射场景，可精准调控膜层生长条件 |
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真空测量：大气压臲span style="font-family:'Arial',sans-serif">0.02Pa |
宽量程精准测量，实时反馈腔体真空状态，保障实验稳定?/p> |
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靶源与溅射参?/p> |
靶尺寸：φ50mm×H0.1mm |
适配标准靶材规格，确保溅射范围均匀覆盖样品 |
可溅射靶源：金（Au）、银＇span style="font-family:'Arial',sans-serif">Ag）、铂＇span style="font-family:'Arial',sans-serif">Pt（/p> |
支持多种高纯度贵金属靶材，满足不同功能薄膜制备需汁/p> |
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配置靶源：铂＇span style="font-family:'Arial',sans-serif">Pt）磁控靶 |
磁控结构增强溅射效果，铂靶材保障膜层高纯度与稳定?/p> |
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溅射电流９span style="font-family:'Arial',sans-serif">0-100mA连续可调，精?span style="font-family:'Arial',sans-serif">1mA |
宽幅调节范围搭配高精度控制，可精准调控沉积速率与膜厙/p> |
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样品台参?/p> |
高度调节９span style="font-family:'Arial',sans-serif">0-20mm |
灵活调节样品高度，适配不同尺寸样品与溅射需汁/p> |
样品台与靶源距离９span style="font-family:'Arial',sans-serif">45mm |
优化间距设计，保障膜层均匀性与附着劚/p> |
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腔体结构 |
外尺寸：φ170mm×H140mm；内尺寸９span style="font-family:'Arial',sans-serif">φ150mm×H115mm |
大容积腔体设计，可容纳多样尺寸与类型样品 |
腔体材质：抗刮石英玻璂/p> |
耐磨损、透光性好，便于观察内部溅射过程，使用寿命镾/p> |
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真空泵系绞/p> |
泵型：高速旋片式真空泴/p> |
抽气速率稳定，运行静音，适合实验室环境使?/p> |
转速与抽气速率９span style="font-family:'Arial',sans-serif">50HZ旵span style="font-family:'Arial',sans-serif">4m³/h＇span style="font-family:'Arial',sans-serif">1L/S（/p> |
高效抽气能力，快速建立实验所需真空环境 |
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物理与电气参?/p> |
设备重量/尺寸９span style="font-family:'Arial',sans-serif">43kg / 360mm×340mm×350mm（长×宼span style="font-family: 'Arial',sans-serif">×高） |
体积小巧，重量适中，便于实验室布局与移?/p> |
工作电源９span style="font-family:'Arial',sans-serif">AC220V 50HZ |
适配民用标准电源，无需特殊供电改造，使用便捷 |
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电源功率９span style="font-family:'Arial',sans-serif">1.5kw |
功率输出稳定，满足磁控溅射全过程能量需汁/p> |
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质量保证：一年有限质量保?span style="font-family:'Arial',sans-serif">/保修/支持 |
核心部件质保，专业售后支持，降低使用风险 |
二、产品核心特炸/span>
1.性能出众，成膜品?*
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">采用磁控增强溅射技术，有效提升离子轰击密度，制备的膜层致密均匀、附着力强且纯度高，可满足高精度表征实验对膜层质量的严苛要求、/p>
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">0-100mA宽幅溅射电流连续可调，搭酌span style="font-family:'Arial',sans-serif">1mA高精度控制，既能灵活调控沉积速率，又能实现快速成膜，大幅提升实验效率与膜层制备一致性、/p>
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">低温溅射工艺设计，可有效降低溅射过程中的热效应，**程度减少对热敏感样品的损伤，**保留样品原始形貌与性能、/p>
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">腔体密封性能优异，搭配高速旋片式真空泵，抽真空迅速高效，磁控系统运行静音稳定，为实验室提供安静、高效的工作环境、/p>
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">大容积腔体与可调节样品台组合，适配多种尺寸、类型的样品，在保障实验效果的同时，具备突出的性价比优势、/p>
2.多重防护，运行安全可靟/span>
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">配备真空、电流、过温三重互锁保护系统，搭配实时监测模块，全方位保障设备运行、操作人员及样品安全，杜绝意外情况发生、/p>
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">核心部件采用抗氧化、耐腐蚀材质制造，结构设计稳固，不仅维护成本低，还能确保设备长期连续运行的稳定性与可靠性、/p>
3.易用百搭，适配多元场景
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">φ150mm×H115mm大容积腔体搭酌span style="font-family:'Arial',sans-serif">0-20mm可升降样品台，可灵活适配不同规格、类型的样品，满足多样化实验需求、/p>
‡span style="font:9px 'Times New Roman'">采用柔性真空管道设计，设备摆放灵活不受空间限制；操作界面简洁直观，参数调控精准，实验数据重复性强，降低操作人员学习成本、/p>
三、适用范围
SD-900M磁控溅射仪专为材料表征实验场景设计，广泛适用于扫描电镜（SEM）、能谱分析（EDS）?span style="font-family: 'Arial',sans-serif">X射线光电子能谱（XPS）?span style="font-family:'Arial',sans-serif">X射线衍射＇span style="font-family:'Arial',sans-serif">XRD）等各类表征实验、/p>
设备采用低温溅射核心技术，可在绝缘、低导电样品表面精准制备均匀致密的导电或功能薄膜。全程低温工艺可有效避免样品损伤，完整保留样品原始形貌，同时高效解决样品荷电、放电及表征信号失真等痛点问题，显著提升检测精度、表征稳定性与实验数据可靠性，为科研工作者提供高质量的样品预处理解决方案、/p>
四、公司信?/span>
地址：中国北京市昌平区新飞达电子工业发展中心
网站９span style="font-family:'Arial',sans-serif">
邮箱９span style="font-family:'Arial',sans-serif">sales@vpi*********
注册号：91110114MAC8K5PP2N
可以添加电制冷设备，保护对热极其敏感的样品
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