Sreen清洗/消毒设备
SreenSC-3100
国产清洗/消毒设备
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在半导体制造、精密材料分析等领域，晶圆表面微量金属污染物的精准采集是保障器件良率与材料性能的关键环节。传统采样方式易引入人为污染，且对复杂表面晶圆适配性差，耋span style="font-variant-numeric: normal; font-variant-east-asian: normal; font-variant-alternates: normal; font-size-adjust: none; font-kerning: auto; font-optical-sizing: auto; font-feature-settings: normal; font-variation-settings: normal; font-variant-position: normal; font-variant-emoji: normal; font-stretch: normal; font-weight: 700; line-height: 24px; flex: 0 1 auto; flex-direction: row; justify-content: normal; align-items: normal; padding: 0px; margin: 0px; background-image: none; background-position: 0% 0%; background-size: auto; background-repeat: repeat; background-attachment: scroll; background-origin: padding-box; background-clip: border-box;">NAS 技 SC 系列微量金属污染物采样设夆/span>凭借自动化控制与多样化采样模式，成为行业高效采样的理想解决方案、/p>
这款设备由有限会 NAS 技研研发，支持电脑远程控制，提供圆环形、扇形、端面、弧形等丰富采样模式，可精准采集晶圆正面与端面的微量金属污染物。根据型号不同，设备支持自动 / 手动操作：SC-3100、SC-9100、SC-9200 采用自动支架具装 / 卸与采样液供 / 回收，大幅减少人为污染；SC-8150 则为手动操作，更适合小批量、灵活采样场景、/p>
NAS 技 SC 系列微量金属污染物采样设夆/span>突破了传统采样的限制，不仅支持常规憎水面采样，SC-8150、SC-9100、SC-9200 还具备亲水面采样功能，可适配硅材质以外的晶圆，以及因基体蚀刻导致表面粗糙的晶圆，同时能对非重金属离子进行采样，适用范围更广。设备安装环境要求简单，仅需放置于无尘通风柜内，外部资源需求少，易于导入产线或实验室、/p>
在性能与便捷性上，设备表现出色：吸附式采样与亲水面采样模式满足不同场景需求，数据可通过电脑实时记录与分析；SC-9100、SC-9200 还支持晶圆排片追加功能，进一步提升采样效率。作为日本原装进口设备，它凭借稳定的性能与专业的技术支持，成为半导体制造、材料科研等领域的品质管控优选、/p>
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