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氧化钇陶瓷造粒粈/span>品牌
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洛瓷科技氧化钇粉
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核心特征
产品杂质含量低、纯度高
球形度好、适用于干压、等静压成型
烧成密度髗/p>




行业现状
在半导体晶圆尺寸不断增大以及特征尺寸不断缩小的发展进程中,晶圆的污染问题越来越突出。而刻蚀机腔室材料作为晶圆的主要污染源之一,其耐等离子刻蚀性日益受到人们的关注、/p>
在各类适配的陶瓷材料中,氧化钇(Y2O)凭借突出的综合性能脱颖而出。氧化钇属于立方晶系,熔点高?430°C,兼具良好的电绝缘性与透光性。对比传统工艺制备的Al2O。陶瓷已经无法承受卤素类等离子体的刻蚀,难以满足大批量硅片生产的需求,而Y2O3又具有极好的化学稳定性和难浸蚀特性,所以Y2O3陶瓷作为半导体生产中的耐等离子体刻蚀材料备受关注、/p>
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一、半导体刻蚀升级,耐蚀陶瓷材料迎严苛要求等离子刻蚀技术是超大规模集成电路制备工艺中不可或缺加工技术。在半导体晶圆尺寸不断增大以及特征尺寸不断缩小的发展进程中,晶圆的污染问题越来越突出。而刻蚀机腔室材
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