参考价栻/p>面议
型号
薄膜材料表面缺陷分析 Phenom XL G3品牌
产地
荷兰样本
暂无
金牌会员
|?平/p>|
代理啅/p>
工商已核宝/p>
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探测器:
背散射探测器加速电压:
基本模式 2 kV? kV?0 kV?5 kV?0 kV电子枪:
CeB6 灯丝,使用寿命优 3000 小时电子光学放大9/p>200,000 X
光学放大9/p>3-19X
分辨率:
优于 8 nm复纳科技扫描电镜
复纳科技薄膜材料表面缺陷分析 Phenom XL G3
国产扫描电镜
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薄膜材料表面缺陷分析用飞纳扫描电镜Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜,专为薄膜材料表面缺陷分析设计,可有效观察划痕、颗粒、孔洞及结构特征。设备采 CeB6 灯丝,电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm,平均成像时间约 40 秒,支持** 100 × 100 mm 样品,单次可承载 36 个样品,适合大尺寸样品及多样品批量检测场景。广泛应用于薄膜材料缺陷分析、高分子薄膜检测、包装材料观察、表面形貌分析及质量控制等领域、/p>
大仓室设讠/span>:可容纳** 100 × 100 mm 样品,单次承 36 个样品,满足批量检测需汁/p>
快速成僎/span>:平均成像时间约 40 秒,适合多样品快速观察与日常检浊/p>
高分辨率成像:分辨率优于 8 nm,电子光学放大倍数**可达 200,000 X
CeB6 灯丝:使用寿 >3,000 小时,维护成本低,长期运行稳宙/p>
三档真空模式:支持低、中、高三种真空模式,灵活适配导电/非导电、含?干燥等多类样?/p>
灵活探测器配?/span>:标配背散射探测器(BSD),可选配二次电子探测器(SED)及能谱探测器(EDS),按需扩展元素分析能力
光学导航相机:彩色光学导航,便于快速定位目标区埞/p>
桌面级部罱/span>:体积紧凑,无需专用制样室,实验室日常部署便捶/p>
| 参数顸/th> | 规格 |
|---|
| 电子光学放大倍数 | 200,000 X |
| 光学放大倍数 | 3 - 19 X |
| 分辨玆/td> | 优于 8 nm |
| 电子?/td> | CeB6 灯丝,寿 >3,000 h |
| 平均成像时间 | 40 科/td> |
| **样品尺寸 | 100 × 100 mm |
| 样品承载数量 | 36 ?/td> |
| 加速电压(基本模式(/td> | 2 kV / 5 kV / 10 kV / 15 kV / 20 kV |
| 加速电压(高级模式(/td> | 4.8 kV - 20.5 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低真 / 中真 / 高真穹/td> |
| 标配探测?/td> | 背散射探测器(BSD(/td> |
| 可选探测器 | 二次电子探测器(SED)、能谱探测器(EDS(/td> |
| 光学导航相机 | 彩色 |
薄膜材料缺陷分析:划痕、颗粒、孔洞等表面缺陷的快速观察与定位
高分子薄膜检浊/span>:薄膜表面微观结构、涂层均匀性及剥离缺陷分析
包装材料观察:包装薄膜的层间结构、密封质量与表面损伤检浊/p>
表面形貌分析:各类材料表面微观形貌的常规观察与记彔/p>
质量控制:产线样品抽检,薄膜产品质量一致性与缺陷率监?/p>
Q1:该设备适合哪些样品>/span>
A:适合较大尺寸样品?* 100 × 100 mm)及多样品批量检测(单次 36 个),同时满足常规材料形貌观察需求、/p>
Q2:能否进行元素分析?
A:可以。该设备可根据需求选配能谱探测器(EDS),用于颗粒、异物或局部区域的元素成分分析、/p>
Q3:如何获取报价?
A:产品价格根据设备配置、探测器选型及应用需求确定,欢迎通过平台询价入口提交需求,获取官方选型建议,并可预约试样体验、/p>
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