磁控溅射技�?/strong>

NSC-1000磁控溅射系统概述：带有水冷或者加�?**可加热到700�?功能�?*�?"旋转平台�?*可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可�?0-7 Torr�?5分钟内可以达�?0-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度、�/p>

NSC-1000带有10“�/span>派热克钟罩腔体，2�?/span>2“�/span>的磁控管＋�/span>DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测�?/span>(选配)。由亍�/span>NSC-1000的空间有限，我们不能�?/span>NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统，用亍�/span>SEM应用，也可以用于溅射金属�?*6“�/span>的晶圆片、�/span>

NSC-1000磁控溅射系统产品特点９�/p>

• 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腓�/span>

• 70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泴�/span>

• 1KW DC直流电源

• 晶振夹具具有皃�/span><1 ?的厚度分辨率

• 带观察视窗的腔门易于上下载片

• 基于LabView软件皃�/span>PC计算机控刵�/span>

• 带密码保护功能的多级访问控制

• 完全的安全联锁功胼�/span>

NSC-1000磁控溅射系统选配项：

• Thickness Monitor膜厚监测

NSC-1000磁控溅射系统应用９�/p>

• SEM应用

• 溅射金属�?*�?"的晶圆片