磁控溅射技�?/strong>

NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加�?**可加热到700�?功能�?*�?"旋转平台�?*可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可�?0-7 Torr�?5分钟内可以达�?0-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度、�/p>

NSC-4000（A（�/span>带有14”立方形不锈钡�/span>腔体�?�?/span>2“�/span>的磁控管＋�/span>DC直流咋�/span>RF射频电源、�/span>在选配方面�?50 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能、�/span>

NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统产品特点９�/p>

• 不锈钢腔佒�/span>

• 260l/s�?50l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泴�/span>

• 13.56MHz＋�/span>300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

• 晶振夹具具有皃�/span><1 ?的厚度分辨率

• 带观察视窗的腔门易于上下载片

• 基于LabView软件皃�/span>PC计算机控刵�/span>

• 带密码保护功能的多级访问控制

• 完全的安全联锁功胼�/span>

• 预真空锁以及自动晶圆片上/下载牆�/span>

NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统选配项：

• RF�?/span>DC溅射

• 热蒸镀能力

• RF戕�/span>DC偏压＇�/span>1000V（�/span>

• 样品台可加热�?/span>700��C

• 膜厚监测�?/span>

• 基片皃�/span>RF射频等离子清洖�/span>

NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统应用９�/p>

• 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覅�/span>

• 光学以及ITO涂覆

• 带高温样品台和脉冱�/span>DC电源的硬涂覆

• �?/span>RF射频等离子放电的反应溅射