稀土抛光材料及其在化学机械抛光中的应用

中国粉体网讯化学机械抛光（CMP）是实现高端半导体芯片、宽禁带半导体及精密光学元件原子级光滑表面的关键工艺，其性能核心依赖于高性能抛光磨料。稀土抛光材料以氧化铈（CeO?）为主，凭借萤石型晶体结构、丰富的氧空位及Ce^3?/Ce^4?可逆氧化还原特性，在CMP中呈现出远优于传统磨料的化学-机械协同效应、�/p>

现存抛光材料存在磨料粒度分布宽、分散性差，抛光液悬浮稳定性差问题，这严重制约了我国稀土抛光材料的应用。研究表明，磨料颗粒的形貌、尺寸、分散悬浮性能以及二氧化铈中Ce³⁺含量对抛光去除率和表面粗糙度有着重要影响。因此，设计和开发新型高性能稀土抛光磨料，对其粒度、形貌进行严格控制，并对其化学活性实现有效调控、抑制磨料颗粒间的团聚来提高磨料分散悬浮稳定性，是提升抛光效率和降低表面缺陷的重要途径，也是实现稀土抛光材料高端化的重要方向、�/p>

针对高端研磨抛光相关的技术、材料、设备、市场等方面的问题，中国粉体网将亍�strong>2026�?�?5�?4�?6�?/strong>�?strong>河南郑州举办2026高端研磨抛光材料大会暨半导体与光学材料超精密加工讹�/strong>坛。届时，包头稀土研究院高级工程�?稀土抛光材料研究室主任李晓�?/strong>将作题为《稀土抛光材料及其在化学机械抛光中的应用《�/strong>的报告，报告围绕稀土抛光材料的结构特性、抛光机理、行业现状及其在化学机械抛光中的应用展开系统梳理。根据不同抛光领域对稀土抛光材料的要求，针对当前纳米颗粒团聚、高纯度控制、抛光液稳定性及高端国产化不足等关键瓶颈，开展了适用于光学元件、显示玻璃及硅晶圆、碳化硅和氮化镓等半导体材料超精密抛光用稀土抛光材料研究。为我国稀土资源高值化利用和高端CMP材料创新发展提供理论依据与技术参考、�/p>

专家简介：

李晓佩，稀土抛光材料研究室主任、中国稀土学会稀土抛光材料与界表面调控加工技术专业委员会委员、中国稀土学会稀土原子级制造专委会委员、九三学社包头市委参政议政研究员、内蒙古自治区“英才兴蒙”六层次人才、包头市青年创新人才，“包钢英才”工程中青年技术骨干人才、包头稀土研究院女职工双文明建功立业先进个人、九三学社包头市参政议政先进个人。主持和参与各类科研项目十余项，其中主持内蒙古自然科学基�?项、包头市青年创新人才项目1项、北方稀土项�?项、包头稀土研究院项目1项，参与国家自然科学基金面上项目1项、内蒙古自治区科技重大专项2项、北方稀土项�?项。发表期刊论文十余篇，申请国家发明专利十余项，制定和参与行业、企业标准多项、�/p>

参考来源：

中国粉体罐�/p>

（中国粉体网编辑整理/山林（�/p>

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