PNX332B 是全自动通用抛光型设备，不仅可以处理氧化层和金属膜，而且可以去除晶圆表面损伤层。该机型搭载�?个抛光头�?个抛光台，同时可以对6片晶圆进行抛光，同时搭载3个抛光液料桶，分别给每个抛光台提供抛光液，每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛，每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路，可以自动切换纯水或者抛光液。该机型在全�?2寸硅片衬底的抛光占有率达�?0%以上，今后也会将会在8寸碳化硅衬底的全自动抛光做出应有贡献�?/span>

PNX332B 是全自动通用抛光型设备，不仅可以处理氧化层和金属膜，而且可以去除晶圆表面损伤层。该机型搭载�?个抛光头�?个抛光台，同时可以对6片晶圆进行抛光，同时搭载3个抛光液料桶，分别给每个抛光台提供抛光液，每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛，每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路，可以自动切换纯水或者抛光液。该机型在全�?2寸硅片衬底的抛光占有率达�?0%以上，今后也会将会在8寸碳化硅衬底的全自动抛光做出应有贡献�?/p>

性能参数

规格		PNX332B
设备尺寸（W×D×H（�/td>	mm	2440×3260×2200
抛投数量	-	6枙�/td>
加工材料	-	硅、Sic碳化硅晶牆�/td>
**加工尺寸	mm	φ300