设备名称：热� CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号：HF450

真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冶�/p>

真空腔室尺寸：�?50mmxH500mm

真空系统：复合分子泵高真空系绞�/p>

基片台尺寸：Φ100mm

衬底温度�?00 � 1100ℂ�/p>

电源：专用热丝电� 400A, 恒流或恒功率模式

气路控制�? 路气体流量控刵�/p>

控制方式：PLC 触摸屏控刵�/p>

占地面积：主� L1200mm×W1060mm×H1900mm

总功率：� 20kW