设备型号：TEMD600
镀膜方式：E 型电子枪
真空腔室结构：立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统
真空腔室尺寸：�?00mm×H750mm
加热温度：室温～ 300ℂ�/span>
基片台尺寸：平板� Φ350mm，或球罩型基片台 ( 可� )
膜厚不均匀性：� ±5.0%
考夫曼离子源：可逈�/span>
蒸发源：电子� 10KW，６穴坩埚，国产／进口（可选）� 配２套电阻蒸�
控制方式：PLC/PC（可选）
占地面积：L2500mm×W1600mm
总功率：� 17kW

大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备、�/span>

1. 设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低：�/span>

2. 可用于生产线前期工艺试验等；

3. 实验室制备导电薄膜、半导体膜、光学薄膜等，可同手套箱复合使用、�/span>