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沈阳中科汉达科技有限公司
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产品分类
管式炈/a>
粉体焙烧炈/a>
水平式长晶炉
其他
氧化铝粉
氮化铝粉
产品简今/div>
适用于碳化硅原料合成也可用于碳化硅晶体生长，采用中频感应电源加热方式，上取放料、坩埚轴快慢速移动、/p>
技术参?/span> |
|
生长工艺 |
PVT |
生长尺寸 |
6-8英寸 |
产品类型 |
非标定制 |
加热方式 |
感应加热（中频感应加热） |
**温度 |
2400ℂ/p> |
系统停泵关机12小时后真空度 |
?Pa |
控制方式 |
PLC集成控制 |
系统极限真空?/p> |
?×10-5 Pa (经烘烤除气后) |
系统真空检漏漏玆/p> |
?.0×10-7 Pa.l/S |
冷却方式 |
循环水路系统 |
适用于碳化硅原料合成也可用于碳化硅晶体生长，采用中频感应电源加热方式，上取放料、坩埚轴快慢速移动。内壁氩弧焊接，内表面镜面抛光，反射热量，减少功率损耗，减少气体附着。自主研发控制系统，实现自动化稳定、安全、操作便捷。适用于碳化硅原料合成也可用于碳化硅晶体生长，采用中频感应电源加热方式，上取放料、坩埚轴快慢速移动。内壁氩弧焊接，内表面镜面抛光，反射热量，减少功率损耗，减少气体附着。自主研发控制系统，实现自动化稳定、安全、操作便捷、/p>
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