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荫罩掩膜对准 Shadow Mask Aligner
设备简介：
本设备可以用于精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆。可以放于真空腔体用于PVD工艺。沉积后，夹盘可以打开，晶圆和掩膜可以不破坏的分离，并且掩膜板可以重复利用、/p>
夹盘可以用于任何基底尺寸以满足用户的要求，并且我们也可以提供精确和经济的由金属、硅、玻璃、陶瓷等制造的荫罩掩膜、/p>
产品型号９/strong>SMA-100，SMA-150，SMA-200
晶圆和荫罩尺寸：100mm?50mm?00mm，取决于设备的配?/p>
样品台特征：
X和Y方向范围：步?0m，灵敏度2m
Z方向范围：步?0m，灵敏度2m
旋转角度?60不间?/p>
倾斜：工厂校准，工程师手动调芁/p>
对准精度（溅射后（/p>
线性对准：典型?m ZUI大?0m
旋转对准?.001?.009
夹盘
晶圆尺寸?00mm?50mm?00mm
夹盘材料：阳极氧化铝或非阳极氧化铜/p>
夹盘厚度?0mm取决于晶圆和掩膜的厚?/p>
荫罩掩膜（客户可定制荫罩掩膜（/p>
材料：硅、石英、玻璃、金属、陶瓶/p>
仪器尺寸?00mm x 250mm
安装需求：用于对准过程中用来观察的显微镜、真穹/p>
注：可以根据用户的需求进行定制、/p>
优点９/strong>
精确和可重建性的PVD涂层构建
用于PVD的减震夹盗/p>
易用、对晶圆无损夹持机构
由于真空夹持，可以在对准的过程简单操佛/p>
可以用于不同的晶圆尺寷/p>
不需要安裄/p>
低运行成?/p>
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移动?/p>
工商已核宝/p>
