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德国Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager
对于工业界和学术界所有关注速度和高分辨的电子束曝光应用,我们推荐您选择VOYAGERTM这款专业电子束光刻系统、/p>
Raith非常重视这款具有吸引力的在使用寿命期间具有高性价比、新开发的、创新的eWRITE体系结构、/span>
系统的硬件和软件被一致设计为自动曝光操作,先进的高性能图形发生器和电子光学系统优化设计并协同一致、/span>
系统可实?英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标,可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩,即使在稍差的实验室环境下,仍然能确保系统具有非常好的热稳定性,提高系统对外界环境的容忍度、/span>
00001.?初设计到样品制备完成,实现高速样品加工,提高产量
00002.智能设计:设备占地面积小,且集成环境屏蔽?/span>
00003.创新的、未来安全型系统架构
00004.专业的电子束曝光系统,可实现每小旵/span>1cm2的高速曝光,高性价毓/span>
Raith新推出的eWrite技术结合了专业电子束光刻的光学系统和创新的图形发生器设计,该技术适用于研发及批量生产的所有工作、/span>
HSQ胶上制作亙/span>7nm线条
SU8胶上制作1x1 cm2菲涅尔透镜,曝光时间为53分钟,图为菲涅尔透镜中心区域
PMMA双层胶上制作150nm T型栅结构
ZEP520胶上制作1x1 cm2光栅结构,曝光时间小亍/span>2小时
高速度模式'/span>40nA束电流下曝光160um大结构)和高分辨模式'/span>0.4nA束电流下曝光10nm细小结构)自动切捡/span>
ZEP520胶上制作光子晶体波导结构
主要应用: 高速直冘/span> 衍射光学元件 防伪元件 批量加工化合物半导体器件 样品? 6 移动范围 Z方向移动范围?/span> |
电子枪技? eWrite 电子 50 kV 独特直写模式: traxx 长线条无写场拼接曝光模式 periodixx周期结构无写场拼接曝光模弎/span> |
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Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager的使用方法?
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Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager使用的注意事顸/li>
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Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager的报价含票含运费吗?
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Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager包安装吗>/li>

