设备名称：粉体镀膜设� 设备型号：JGCF800 镀膜方式：磁控溅射 真空腔室结构：�?00mmxL800mm 粉体 / 颗粒尺寸：≥ 20um 物料装载：滚筒震动式 产量�?00g 加热烘烤：可� 溅射源：矩形 / 圆柱� 占地面积：L1620mm×W1060mm×H1900mm 总功率：� 20kW 控制方式：PLC/PC 控制 ( 可� ) 报警及保护系统：完善的逻辑程序互锁保护系统

1. 在微米级以上粉体颗粒表面沉积各种纳米级单层及多层导电膜、半导体膜、绝缘膜等；

2. 系统可用于粉体颗粒表面金属化，达到表面导电，例：碳化硅表面镀钛，氧化铝表面镀镍等 ;

3. 系统可用于粉体颗粒表面反射率的改变，应用于化妆品、汽车等高端外观粉体涂料＋�/span>

例：玻璃微珠镀氧化钛等：�/span>

4. 系统可用于粉体颗粒表面层成份改变，应用于新型合金材料改变其中某一成份含量：�/span>

5. 系统可用于粉体颗粒表面沉积新材料，有效提高粉体固化粘结强度，例：金刚石粉镀铬等

6. 广泛应用于粉体烧结�?D 打印原材料、粉体表面光学性能改变等行业及研究方向、�/span>

我公�?*技术，粉体颗粒涂覆技术国�?*，微米级粉体包覆率大� 90%，结合力好；

已能实现产品系列化满足科研及批量化生产之需求、�/span>