简单介绍：

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜

详情介绍９�/p>

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜。其核心特点包括９�/p>

铝合金真空腔体：轻量化设计，耐腐蚀性好，适合实验室或小规模生产环境、�/p>

单靶配置：支持单一靶材（如金属、合金或氧化物），结构简单，操作便捷、�/p>

磁控溅射技术：利用磁场约束等离子体，提高溅射效率，形成均匀、致密的薄膜、�/p>

桌面设计：体积小巧，适合科研院所、高校实验室等空间有限的场所、�/p>

应用领域９�/p>

该设备广泛用于材料科学、光学、电子等领域，具体包括：

光学薄膜：如增透膜、反射膜、滤光片等、�/p>

电子器件：半导体电极、导电薄膜（如ITO）、传感器涂层、�/p>

功能材料：耐磨涂层（如TiN）、防腐涂层、超硬薄膜（类金刚石）、�/p>

科研实验：新材料开发、薄膜性能测试、教学演示等、�/p>

磁控溅射镀膜仪技术参数：

产品名称	桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪
产品型号	CY-MSZ200-I-DC-AL
样品�?/span>	外形尺寸	φ50mm
	旋转	自转+公转角度倾斜2英寸
	可调转逞�/span>	�?0rpm
磁控靶枪	配一支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm
真空腔体	腔体尺寸	φ180mm X 150mm
	腔体材料	铝合釐�/span>
	开启方弎�/span>	上盖拆卸弎�/span>
真空系统	真空测量	复合真空计，量程:10-5~105Pa
	抽气接口	KF25
	系统真空	1.0E-1Pa（机械泵（�/span>
	供电电源	AC 220V 50/60Hz
	输出功率	直流电源500W
其他参数	供电电压	AC220V,50Hz
	整机功率	2kW
	�?nbsp;野�/span>	30kg
	整机尺寸	385X450X420mm