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纳米材料
Ф100*5mm
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高纯硼靶材是一种用 物理气相沉积 (PVD)技术,特别 溅射镀 工艺的关键性基础材料 它通常 高纯 的硼(B)粉末经过一系列复杂的工艺(如热压、热等静压等)制成具有一定形状(如圆形、矩形)和机械强度的固体靶材,并背靶焊接在金属垫片上,以便安装在溅射设备中使用 “高纯”是硼靶材的核心指标之一,通常要求纯度?9.95%?N5)以上,甚至达到99.999%?N)级别、/p>
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