该设备是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路 分立器件、电力电子、光电器件等行业的氧化、扩散、退火、合金等工艺、/p>
氧化工艺:主要用于初始氧化层、栅氧化层、场氧化层等多种氧化介质层的制备工艺、/p>