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化学气相沉积设备
报价9span>面议
品牌9/td> 研博智创
产地9/td> 河北
关注度: 329
型号9/td> 化学气相沉积设备
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产品介绍

化学气相沉积设备 基片台尺寸:Φ200mm; 电源:RF 500W; 真空腔室结构:立式上开盖结构; 真空腔室尺寸:?50×H300mm:/span>

化学气相沉积设备产品概述 1.适用范围:化学气相沉积设备适用于各单位实验室、高校实验室、教学等项目的科研、产品中试 2.产品优点及特点:适用于硬涂层等膜的制备,以及等离子体的清洗 3.主要用逓化学气相沉积设备主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介电、金属膜、/span>

问商宵/div>
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研博智创任丘科技有限公司为您提供研博智创化学气相沉积设备,化学气相沉积设备产地为河北,属于半导体行业专用仪器,除了化学气相沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供磁控溅射镀膜设备、真空电弧炉 VDK250、高真空退火炉 VTHK550
工商信息
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研博智创任丘科技有限公司

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91130982MA0CU05T08

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