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管式化学气相沉积设备
报价9span>面议
品牌9/td> 研博智创
产地9/td> 河北
关注度: 187
型号9/td> 管式化学气相沉积设备 100/CVD200
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产品介绍

管式化学气相沉积设备 100/CVD200 镀膜方式:化学气相沉积 真空腔室结构:高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢; 真空腔室尺寸:?00mm×L1000mm、?00mm×L1600mm 基片台尺寸: 2英寸 / 定制生长车(分层); 一、产品特点: 该设备是利用高温化学气相沉积技术,石英管生长室清洁无污染;多路气体控制合理;PID加热温度高控温。高真空环境,兼具真空退火炉功能 二、主要用途: 可制备用于光电子、石墨烯、微波器件等高纯薄膜 三、适用范围 适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用 四、技术参数:

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研博智创任丘科技有限公司为您提供研博智创管式化学气相沉积设备,管式化学气相沉积设备产地为河北,属于半导体行业专用仪器,除了管式化学气相沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供磁控溅射镀膜设备、高真空退火炉 VTHK550、真空电弧炉 VDK250
工商信息
企业名称

研博智创任丘科技有限公司

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91130982MA0CU05T08

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