一、整机简� 特点/用� ZHD400高真空电阻蒸发镀膜设备，�?组蒸发源；适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等� 该设备主机与控制一体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小。设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等，深受广大用户好评� 其主要用途有� 1. 适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜，单层/多层/复合膜，例：铜、镁、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等； 2. 适用于太阳能电池、LED的研究和实验� 3. 适用于有机材料等蒸发� 4. 适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜；例：氧化钼、氟化鋰等； 5. 适用于扫描电镜制样等� 二、设备主要技术参� 1.真空腔室 304真空专用不锈钢，L400×W440×H450mm；方形前开门结构； 2.真空系统 磁悬浮分子泵+直联旋片�?高真空挡板阀，“两低一高”数显复合真空计� 3.真空指标 极限真空优于6.6×10-5Pa（设备空载抽真空24小时）； 设备升压率≤0.8Pa/h� 设备保压：停�?2小时候后，真空≤10Pa� 4.抽� 空载从大气抽�?.0×10-4Pa�?5min� 5.基片� 抽屉式结构，承载小于120×120mm基片�?nbsp; 电机驱动基片台旋转，旋转速度0�?0�?分钟可调� 手动升降，升降基片台可调节范�?0mm � 可根据要求定�?种掩膜板（客户提供掩膜图案）� 6.基片台加� 加热温度�?00℃，PID智能温控闭环控制� 7.蒸发� ①金属源：水冷铜电极 2组； 逆变式蒸发电源，功率3000W�?nbsp;1台； ②有机源：有机蒸发源� 温度600°），2组； 有机控温蒸发电源�?套（独立PID智能温控蒸发）； ③每组蒸发源配气动挡板及源间防污隔板：�br/>