产品摘要

该设备用于多种涂层制备，尤其是硬质涂层及防腐耐磨涂层、装饰镀材料制备；可广泛用于大专院校、研究院所和企业器件研发制造及小批量生产、�/p>

产品介绍

设备特点９�/p>

★设备可配备矩形磁控溅射靶，圆形平面靶、柱状靶，多弧靶，离子源筈�/p>

★设备功能强大、磁控、多弧、离子源等通用接口安装实现任意组合，可**限度实现多种类膜层的制备

★适合研发实验室初期多用途薄膜制备平台的搭建

设备参数９�/p>

★腔体尺寸：304不锈钢腔室�?50×H700mm

★真空极限：优于�?E�?5）Pa

★工件架：约Φ350mm�?-6工位�?自转工件架；可加偏压

★工件烘烤温度：室温500±5� 可调可控（PID控温（�/p>

★工件架转速：0-20RPM可调