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无掩膜光刻机
无掩膜光刻机
  • 型号

    无掩膜光刻机
  • 产地

    安徽
  • 品牌

    安徽泽攸
  • 产品分类

    半导体行业专用仪?/span>
  • 关注?/p>1313

  • 参考报件/p>

产品详情

    泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用、/span>

    技术特炸/span>

    纳米压电位移台拼接技?/span>

    红光引导曝光,所见即所徖/span>

    OPC修正算法优化图形质量

    CCD相机逐场自动聚焦

    灰度匀光技?/span>

    光路远离结构国/span>

    光路远离结构? width=

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