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喷射化学气相沉积(Spray CVD)
产地：法国AS：/span>
- 主要用于太阳能电池氧化物、半导体、电光涂层、绝缘层、超导体、固体燃料电池等的材料制备及薄膜沉积、/span>
- 2inch小型喷射化学气相沉积设备，主要用于实验室。沉积及退火在同一个腔体内完成、/span>
性能和特点：
- 温度范围：室 ~ 1200摄氏?
- *快升温速度?50摄氏?科
- 前驱体混合能?带有Atokit喷雾?;
- **真空度：10-6Torr;
- 样品尺寸：不大于2英寸;
暂无数据
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移动?/p>
工商已核宝/p>
