参考价栻/p>面议
型号
MiPLATO-SIC品牌
HORIBA产地
北京样本
暂无HORIBA测量/计量仪器
HORIBAMiPLATO-SIC
国产测量/计量仪器
看了MiPLATO-SiC晶圆缺陷检测系统的用户又看亅/p>
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MiPLATO-SiC 碳化硅晶圆缺陷检测系统是针对 SiC 晶圆优化 PL 扫描成像系统、/p>
该系统利用螺旋扫描技术,可在短时间内获取整片晶圆的光致发光信息,从而实现缺陷密度、载流子寿命及膜厚变化的同步测量。其深度学习功能可进行自动缺陷分类,实现先进的缺陷类型识别与评估。在光谱扫描成像过程中,自动导航功能可通过 PL 光谱坐标、DIC 图像、平台坐标等数据实现缺陷位置的识别与自动追踪。并且,该系统还能够检测并分析晶圆上的微小缺陷、/p>
产品特点
使用 355 nm 激光同时进 3 通道光致发光?通道微分干涉相衬显微成像(DIC)测野/p>
基于深度学习的缺陷分枏/p>
微分干涉相衬显微成像(DIC)表面检浊/p>
355 nm 激发的反射式微分干涉相衬显微成像(DIC(/p>
胡萝卜状、划痕、水滴状?-C 三角形缺陶/p>
带边 PL 检测方法,额外提供 2 种数据供用户参耂/p>
BPD、肖克利堆垛层错、条状堆垛层锘/p>
结合光谱仪进行光致发光光谱成僎/p>
全晶圆扫描成僎/p>
对成像数据中指定区域进行光谱分析
自动导航功能
基于 PMT 成像,光谱测量和图像处理结果的自动缺陷检浊/p>
通过光谱分析实现精确的堆垛层错分籺/p>
光路配置

配备 1800 RPM?*转速)旋转平台的螺旋扫揎/p>
单探头型&双探头型(开发中(/p>
配备 50 倍物镜的微区 PL
光斑尺寸 2μm
多探测器 :
默认配置:反射式 DIC、带 PL、光谱仪
额外两个可定 PL 探测?/p>



衬底和外延晶圆的 Macro 扫描成像可用 QC
机器与机器间
晶棒与晶棒间
同批晶棒的晶圆与晶圆闳/p>
晶圆均匀?/p>
> 5 分钟/ 6“,3 mm 步进


光谱采集过程的屏幕截?nbsp;
1. PMT 扫描成像结果
2. 待测 SF 的裁剪图僎/span>
3. SF 的光谱数?/span>
4. 光谱 SF 的详细信?/span>
5. 已分 SF 的报呉/span>
产品配置



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