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半导体行业专用仪?/a>
AG7500 减薄朹/p>
主要特点9/span>
▏In-Feed 主轴 进给 磨削加工,加工精度高
▎/span>采用精密进口滚珠丝杆、直线导轨,高精度电机,
进行 Z 向精密控制;*小分辨率 0.1um/s
▎/span> 成熟稳定的加工过稊/p>
▎/span> 采用高刚性气浮主轴,高可靠性与运动精度的承片组
件,加之高精度测厚仪;保证加工全程的稳定、可靟/p>
▎/span> 便捷的操作与人机交互界面
▎/span> 采用直观便捷的整机操作界面,可选择不同尺寸不同
规格的加工配置文仵/p>
▎/span> 简单紧凑的单轴减薄朹/p>
▎/span>单主轴,单工作台,结构紧凑的减薄机,**可对 12 英寸
的加工物
▎/span>可广泛适用于硅晶圆意外的材斘/span>
▎/span>可有效于硬质和脆性材料以及电子元件产品的研削加工
先进功能9/span>
?nbsp; 操作日志记录 :/span>
?nbsp;真空预警与真空管路去水;
?nbsp;实时高精度接触式晶圆测厚功能:/span>
?nbsp;12 英寸晶圆等材料磨削;
?nbsp;抽雾过滤系统:/span>
?nbsp;主轴水冷系统:/span>
?nbsp;主轴磨削力实时监测功能;
☐/span>功能模块?amp;软件定制、/span>
详情
应用9/span>
主要应用 12 英寸半导体晶圆的全自动减薄加工、/p>
适用 LED 背胶,Si 等特定半导体材料的加工、/p>
**工作物尺寷/span> |
mm |
Max.ø300"(ø4"~ø12") |
|
主轴 |
主轴 |
高频电机内嵌空气静压主轴 |
|
转逞/span> |
Rpm |
0-4,000 |
|
额定输出功率 |
kW |
7.5 |
|
Z轳/span> |
行程 |
mm |
80 |
进刀速度 |
μm |
0.0001-0.08 |
|
快退速度 |
μm |
50 |
|
*小位移量 |
μm |
0.1 |
|
分辨玆/span> |
μm |
0.1 |
|
高度讠/span> |
测量范围 |
μm |
0-1250 |
分辨玆/span> |
μm |
0.1 |
|
重复精度 |
μm |
±0.5 |
|
吸盘 |
工作台型弎/span> |
多孔陶瓷式工作台 |
|
转逞/span> |
Rpm |
0-500 |
|
工作台清洖/span> |
油石手动清洗 |
||
磨轮 |
金刚石砂?/span> |
mm |
Ø300 |
排风速度 |
?m³/min |
||
真空 发生?/span> |
真空压力 |
kPa |
-90(水温 15°C,流量 1L/min ? |
电动机功玆/span> |
kW |
2.4 |
|
用水野/span> |
L/min |
3(水温>22°C),1(水温<22°C) |
|
加工精度 |
单片晶圆内厚度差 |
μm |
±3 |
不同间晶圆厚度差 |
μm |
±3 |
|
精加工面粗糙?/span> |
Ry0.13(2000#)Ry0.15(1400#) |
||
设备重量 |
Kg |
?,100 |
|
设备尺寸/ W*D*H |
mm |
840*1,920*1,750 |
使用条件9/span>
请使用大气压露点?15 ℃以下残余油分为0.1ppm,过滤度?.01 μm/99.5 %以上的清洁压缩空气、br style="box-sizing: border-box;padding: 0px;border: 0px"/> 请将放置机械设备的房间室温设定在20 ℃?5℃之间,并将波动范围控制在? ℃以内、br style="box-sizing: border-box;padding: 0px;border: 0px"/> 请将切削水的水温控制为室?2 ℃(变化波动范围在? ℃以内),将冷却水的水温控制为与室温相同(变化波动范围在±1 ℃以内)、br style="box-sizing: border-box;padding: 0px;border: 0px"/> 其他,请避免设备受到撞击及外界的有感振动。另外,请不要将设备安装在鼓风机、通风口、产生高温的装置及产生油雾的装置附近、br style="box-sizing: border-box;padding: 0px;border: 0px"/> 本设备会使用水。万一发生漏水影响,请把本设备安装在有防水性之地板及有排水处理之场所、br style="box-sizing: border-box;padding: 0px;border: 0px"/> ?)为非标准配置、/p>
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