全自�?2寸晶圆抛光机

为应对当前高端集成电路制造国产化趋势，研发出12吋全自动高产能CMP(化学机械研磨)设备，满足客户多种工艺应用场景需求、提供整体解决方案，**化地降低客户设备运维成本、提高单位面�?单位时间的产出率、�/p>

设备特点

多线程跑货，高WPH

模块化布局，分区维抣�/p>

自主研发多分区研磨头

干进干出，马兰戈尼提拉干�?/p>

搭配在线量测IM，实现APC

高速响应、高精度Endpoint技�?/p>

用于Oxide/Si/STI/W/Cu/Poly等CMP制程

可支持天车系统，实现全自动派�?/p>

适配全工业化生产系统MES/RMS/FDC/PMS筈�/p>

具备自主知识产权创新技�?/p>

标准机台尺寸：长5.7m*�?.8m*�?.7m