当前,碳化硅(SiC)作为第三代半导体核心材料,在新能源汽车、光伏储能?G 通信、特高压、大数据中心等新基建领域快速渗透,已成为全球半导体产业的前沿制高点。我 “十四五 规划已将碳化硅半导体纳入重点支持领域,但与国际先进水平相比,在晶体缺陷控制、生长速率提升、加工精度优化、良品率改善等关键技术环节仍存在差距,亟需通过产学研协同破解难题?#8203;
为加快推动我 SiC 产业技术突破与成果转化,中国粉体网定于 2026 5 28 日在安徽合肥举办 “第三代半导 SiC 晶体生长及晶圆加工技术研讨会”,汇聚行业专家、学者及企业代表共探技术路径与产业机遇、/strong>
在此背景下,先进半导体晶体材料将亍span style="color: rgb(255, 0, 0);">2026??8?/span>?span style="color: rgb(255, 0, 0);">安徽·合肥举办第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会,大会将汇聚国内行业专家、学者、技术人员、企业界代表围绕晶体生长工艺、关键原材料、生长设备及应用、碳化硅晶片切、磨、抛技术等方面展开演讲交流。唐山晶玉科技股份有限公司作为参展单位邀请您共同出席、/strong>

唐山晶玉科技股份有限公司成立?009年,从事精密电子专用机床设备的研发、生产、销售,主导产品为高精密多线切割机,被广泛应用于磁性材料、半导体材料、蓝宝石、光学玻璃等硬脆性材料精密加工领域
公司先后获得国家高新技术企业、国家专精特新“小巨人”企业、国家技术创新示范企业、国家绿色工厂、省制造业单项冠军企业等荣誉称号;建有国家企业技术中心、国家级工业设计中心、半导体精密加工技术国家地方联合工程研究中心等创新研发平台;多项技术产品荣获中国工业优秀设计奖金奖、创客中国创新创业大赛、河北省科学技术奖等奖项、/strong>
自创立伊始,晶玉科技始终秉承“持续创新,品质至上,成就用户,追求卓越”的核心价值观,不断实现跨越式发展。未来,晶玉科技将以“聚资聚智聚人才,创新创业创未来”为统领,补链、延链和强链,致力于为用户提供更加优质、高效、智能的电子专用设备,积极推动行业技术创新和发展,助力电子产业的蓬勃发展、/strong>
产品介绍
1、YBDX7050多线切割朹/strong>

产品介绍
· 本机主要用于切割单晶硅、陶瓷、玻璃、贵重金属等硬脆材料,应用金刚石线切割、/p>
· 采用双墙结构罗拉,保证主轴高速运转稳定、可靠、/p>
· 采用下置工作台加工方式,切割过程工件摇摆,提高切割效率、/p>
· 放线轮轻量化设计,储线量提高、/p>
技?/span>参数 |
|
最大工件尺寸(宽×长×高)mm |
摇摆?00×500×700 |
切割片厚范围(mm) |
1.5-30直片 |
槽轮参数(mm) |
Φ140-Φ160×500 四轴 |
工作台升降行程(mm(/span> |
Max 785 |
摇摆角度(°) |
±7.5 |
切割线速度(m/min(/span> |
最?100 |
最大储线量(m(/span> |
50000(0.25金刚石线) |
钢线直径(mm(/span> |
0.13-0.37 |
总额定功率(kW(/span> |
63.6 |
整机重量 |
12500 |
| 主机外形尺寸(宽×长×?(mm | 2580×2845×3670 |
2、XQ80150单线切割朹/strong>

产品介绍
· 本机主要使用金刚石线截断较大规格的脆硬性材料、/span>
· 切割钢线具有摇摆功能、/p>
· 工作台具有平移功能、/span>
· 精简导轮数量,便于绕线、/p>
技?/span>参数 |
|
最大工件尺寸(宽×长×高)mm |
800×800×1500 |
切割片厚范围(mm) |
1-1500直片 |
槽轮参数(mm) |
Φ160*2导轮 |
工作台升降行程(mm(/span> |
Max 820 |
摇摆角度(°) |
±15 |
切割线速度(m/min(/span> |
最?200 |
最大储线量(m(/span> |
20000(0.25金刚石线) |
钢线直径(mm(/span> |
0.25-0.5 |
总额定功率(kW(/span> |
25.6 |
整机重量 |
7500kg |
| 主机外形尺寸(宽×长×?(mm | 3050×3900×2750 |
3、SXQ1400开方机

产品介绍
· 本机主要用于切割水晶、人造宝石、单脆材料晶硅、陶瓷、玻璃、贵重金属、磁性材料等硬脆材料、/p>
· 采用下置双工位工作台加工方式,切割效率更高、/p>
· 每个工位21个切割单元,每个切割单元的切割尺寸为170mmx70mmx160mm、/p>
· 采用水平移动工作台、/p>
技?/span>参数 |
|
最大工件尺寸(宽×长×高)mm |
170×70×160×42?双工? |
切割片厚范围(mm) |
1-70直片/R?,弦高≤25弧片 |
槽轮参数(mm) |
Φ160X1430三导轮轴+导轮 |
工作台升降行程(mm(/span> |
Max 180 |
切割线速度(m/min(/span> |
最?200 |
最大储线量(m(/span> |
20000(0.2金刚石线) |
钢线直径(mm(/span> |
0.10-0.3 |
总额定功率(kW(/span> |
66.5 |
整机重量 |
9000kg |
主机外形尺寸(宽×长×?(mm(/span> |
2240×3100×2380 |
会议主题9/strong>
1、碳化硅半导体产业现状、政策导向与未来市场展望
2、大尺寸? 英寸及以上)SiC 晶体生长技术难点及突破路径
3、SiC 单晶生长用高纯碳粉与硅粉的纯度控制(杂质去除)及制备工艺
4、碳化硅晶体生长装备(长晶炉)关键部件(保温层、加热系统)应用进展
5、碳化硅衬底研磨 / 抛光工艺优化及专用耗材(磨料、抛光液)技术创?#8203;
6、SiC/TaC 涂层制备工艺及其在晶体生长设备中的应用性能
7、第三代半导体碳化硅的先进切割技术(机械切割、等离子切割)对?#8203;
8、激光技术(3D 激光隐切、飞秒激光)在碳化硅切割及划片上的应用与损耗控刵/strong>
9、高平整 SiC 衬底化学机械抛光(CMP)技术研究与良率提升
10? 英寸碳化硅外延材料生长核心工艺(温度、压力控制)与关键装备选型
11、碳化硅衬底及外延层缺陷(微管、位错)检测技术与自动化设备应?#8203;
12、碳化硅晶片清洗工艺(超声清洗、化学清洗)与表面洁净度控?#8203;
13、SiC 晶体加工关键设备(抛光机、检测设备)国产化进程与性能对标
14、晶圆切割设备市场现状、技术趋势及国产替代案例分析
15、立 SiC 单晶液相法生长的界面稳定性与晶体质量调控
16、车规级 SiC 晶圆可靠性测试(AEC-Q102 认证)适配技?#8203;
17、SiC 晶体生长 “黑匣子 状态实时监测(温度、压力传感器)系统开?#8203;
18、碳化硅全产业链供应链(材料 - 设备 - 加工 - 应用)协同整合模弎/strong>
报名送产业研究报告(限前50名)

会务练/strong>
联系人:段经琅/strong>
电话?3810445572
邮箱:duanwanwan@cnpowder.com

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