化学气相沉积设备 基片台尺寸：Φ200mm; 电源:RF 500W; 真空腔室结构：立式上开盖结构； 真空腔室尺寸：�?50×H300mm：�/span>

化学气相沉积设备产品概述 1.适用范围：化学气相沉积设备适用于各单位实验室、高校实验室、教学等项目的科研、产品中试� 2.产品优点及特点：适用于硬涂层等膜的制备，以及等离子体的清洗� 3.主要用逓�化学气相沉积设备主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介电、金属膜、�/span>