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Mono- and Multi-crystalline wafer and brick lifetime measurement device
库span>用范図/span>9/span>用于常规质量控制、精密材料研发的单晶和多晶片及晶锭的寿命测量
根据SEMI标准PV9-1110的非接触式和无损成像(PCD / MDP(QSS))、光电导性、电阻率和p/n检查、/p>
晶圆切割,炉内监控,材料优化等、/p>
日常寿命测量,质量控制和检骋/span>◆产量:>240?天或>720??/p>
◆测量速度:对亍/span>156x156x400mm标准晶锭+4分钟
◆生产改善:1mm切割标准?56x156x400mm标准晶锭
◆质量控制:用于过程和材料的质量监控,如单晶硅或多晶硄/p>
◆污染测定:起源于炉和设备的金属(Fe)
◆可靠性:模块化和坚固耐用的工业仪器,更高的可靠性和运行时间> 99%
◆可重复?/span>:> 99.5%
◆电阻率:不需要经常校凅/span>
精密材料研发
铁浓度测宙/span>
陷阱浓度测定
硼氧测定
依赖于注入的测量筈/span>
特?/span>
完全无触点无破坏的半导体特?/span>
特殊皃/span>“表面之下”寿命测量技?/p>
不可见缺陷的灵敏度的可视匕/span>
自动切割标准定义
空间分辨p/n电导型变换检浊/span>
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