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由伯努利夹盘对晶圆背面进行全面保抣/p>
药液回收功能可降低成?/p>
可集成氮气二流体清洗功能
可灵活应用于湿法刻蚀工艺,如硅蚀刻及薄膜蚀刻工艹/p>
先进的喷嘴扫描系绞/p>
精密的湿法刻蚀均匀度控刵/p>
精密的化学药液供绘/p>
可灵活应用于多种衬底材料,包括重掺杂片、Bonding 片、超薄片筈/p>
*多可配至8套清洗腔佒/p>
配备晶圆翻转单元
*多可配至5种药液进行清洗工艺或者湿法刻蚀工艺, RCA 药液, 氢氟酸,氢氟?硝酸混合? 配方药液筈/p>
伯努利夹盘可对晶片背面全面保抣/p>
*多可回收2种化学药涱/p>

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