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清洗药液独立控制，无交叉污染
喷嘴药液流量精确控制系统
较低的使用成?/p>
优秀的清洗效枛/p>
可应用不同种晶圆清洗工艺?终清洗，外延前清洗，CMP后清洖/p>
高产胼/p>
对小颗粒的管控和金属管控能力?9纳米颗粒增加?lt;=30颗，金属污染<=5E7 atmos/cm2
可适用?寸?寸或12寸晶圆清洖/p>
*多可配置8套清洗腔佒/p>
*多可配置5种药液进行清洗工艺，RCA药液，氢氟酸，臭氧水，去离子水等、/p>
可对基板片，外延片的清洗工艺
暂无数据
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工商已核宝/p>
