看了电阻蒸发镀膜设备ZHDS500的用户又看了
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设备型号:ZHDS500
镀膜方式:金属 + 有机蒸发
真空腔室结构:SUS304 方箱式,配有前、后?/span>
真空腔室尺寸:L500mmxW500mmxH650mm
加热温度:室?300℃(选配(/span>
基片台尺寸:抽屉弎220mmx220mm可旋转、升降、水冶/span>
膜厚不均匀性:≤?.0%?20mmx220mm范围内)
蒸发源:金属/有机4-6练/span>
晶振膜厚监控仪:国产或进口(可选)
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可 )
占地面积:L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套 )
总功率:?2kW 三相五线刵/span>
1. 技术先进、设计优化,性价比高,性能稳定,使用维护成本低:/span>
2. 广泛应用于钙钛矿太阳能电?OPV有机太阳能电池等各种膜层的制备;
如:钙钛矿层、电子传输层及背电极等膜层的制备
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