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电阻蒸发镀膜设备ZHDS500品牌
北京泰科诺产地
北京样本
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设备型号:ZHDS500
镀膜方式:金属 + 有机蒸发
真空腔室结构:SUS304 方箱式,配有前、后门
真空腔室尺寸:L500mmxW500mmxH650mm
加热温度:室温-300℃(选配)
基片台尺寸:抽屉式:220mmx220mm可旋转、升降、水冷
膜厚不均匀性:≤±5.0%(220mmx220mm范围内)
蒸发源:金属/有机4-6组
晶振膜厚监控仪:国产或进口(可选)
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积:L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
总功率:≥12kW 三相五线制
1. 技术先进、设计优化,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
2. 广泛应用于钙钛矿太阳能电池/OPV有机太阳能电池等各种膜层的制备;
如:钙钛矿层、电子传输层及背电极等膜层的制备
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磁控溅射设备的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.装饰领域:各种全反射膜及半透明膜等;3.微电子领域:在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积
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