半导体行业专用仪?/p>
(10~100Pa)
国产半导体行业专用仪?/p>
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产品概述
纳米团簇薄膜在吸波性能、抗辐照性能等多方面有着优异表现，是一种新型薄膜制备方法。与传统磁控溅射不同之处在于采用高气压（10?00Pa）溅射起辉，辉光区处于低温环境，这样溅射产物会形成纳米颗粒，增加二级差分抽气、加速喷嘴及20000V以上的样品偏压等方法将溅射产物镀制到样品上、br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/>产品优势９/strong>
1、多功能：制备纳米团簇薄膜功能、制备常规薄膜功能、RHEED\LEED进行原位检测功能、真空AFM原位检测功能；
2、真空互联：样品在沉积室、进出样室、RHEED\LEED测试室和真空AFM室在线测试腔之间实现真空自动传递；
3、溅射气压控?0秒以内完成；
4、超高真空磁控靶，满?0-8Pa使用环境：br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/> 5、具有手动和自动两种功能：br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/> 6、具有远程控制功能、/p>
技术参?/strong>
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