半导体行业专用仪?/p>
IBE-1000
国产半导体行业专用仪?/p>
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产品概述
离子束刻蚀是在真空中利用离子源产生的带有一定能量的准直离子束进行刻蚀，可以刻蚀几乎已知的任何材料；刻蚀方式有不含反应性离子的物理轰击刻蚀，以及包含了F、O、N等反应性离子的化学刻蚀、br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/>产品优势９/strong>
1、可增加进样室、多工位样品库；
2、样品台可设计为加热、水冷、低温溶液、液氮冷却；
3、样品台可为旋转、倾斜等结构；
4、具有手动和自动两种功能：br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/> 5、具有远程控制功能；
6、售后服务好，保证客户高效使用设备、/p>
技术参?/strong>
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