半导体行业专用仪?/p>
RIE-400
国产半导体行业专用仪?/p>
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产品概述
反应离子刻蚀（RIE）是一种操作简单、经济实惠的通用等离子体刻蚀解决方案：br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/> 系统采用射频平板电容放电方式，充满反应腔室的气体分子，在射频电场作用下被电离而产生等离子体；等离子体中的活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应，同时在垂直于样片表面的射频自偏压作用下，实现了垂直于样片表面向下的各向异性刻蚀、br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/>产品优势９/strong>
1、刻蚀均匀性高?英寸样品可达到?%以内：br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/> 2、具有手动和自动两种功能：br style="margin: 0px; padding: 0px; box-sizing: border-box; text-rendering: geometricprecision; -webkit-tap-highlight-color: rgba(0, 0, 0, 0); color: rgb(102, 110, 128); font-family: 微软雅黑; font-size: 14px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255); -webkit-font-smoothing: antialiased !important;"/> 3、具有远程控制功能；
4、售后服务好，保证客户高效使用设备、/p>
技术参?/strong>
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