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产品详情
高真空磁控溅射薄膜沉积系?-PVD500
产品简今/div>

真空室结枃

方形前开?/p>

真空室尺寷

φ500x500x500mm

产品概述9/span>
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行?*的软件控制系统、/p>

设备特点9/span>

本设备是一个镀膜平台,可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等、br style="box-sizing: border-box; animation-fill-mode: both; padding: 0px; margin: 0px;"/>
设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目、/p>


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