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中国科学院沈阳科学仪器股份有限公号/b>
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产品简今/div>
产品概述9/span>
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成、/span>
设备用途:
热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等、/span>
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