技术参数：

HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化、�/p>

应用９�/p>

�� CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD

�� 真空涂覆/ 等离子刻蚀

�� 沉积溅射

�� 污染物研穵�/p>

�� 基本压力辨别

�� 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析

�� 除气/烘烤/泵效胼�/p>

�� 反应�?过程气体污染�?/p>

特点９�/p>

�� 简洁的桌上型，移动推车或控制台架结枃�/p>

�� Direct re-entrant流孔板，差式泵，以达�?适宜的灵敏度

�� 连续取样�?0^-4mbar�?mbar.

�� 高灵敏度�?*可至5ppb），质量数可选至1000amu

�� 软离子化技术，分析复杂有机物，或表观MS研究

�� 稳定性好(24h之上，峰高变化小�?#177;0.5%)

�� MASsoft软件控制，或由局域网进行多个系统控制

�� 气动阀自动控制；出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置

�� 自动、同时数据取得、分析，实时显示、报�?/p>