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化合物晶体材料设备主要应用于:GaAs砷化镓、InP磷化铟、等III-V 族化合物晶体材料的生长、合成、脱氧等工艺,可实现 VGF/VB 工艺联合生长,晶体生长尺寸:2-6英寸、/p>
单质晶体材料设备主要应用于高纯锌、镉、锑、碲、铟、锡、锗、镓等相关半导体材料的提纯、蒸馏、精馏、升华区熔等工艺、/p>
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