看了电阻蒸发镀膜设备ZHD600的用户又看了
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设备型号:ZHD600
镀膜方式:多源蒸发镀膛/span>
真空腔室结构:立式圆柱前开?/span>
真空腔室尺寸:?50mm×H800mm
加热温度:室温~ 300
基片台尺寸:平板或伞罩型
膜厚不均匀性: ±5.0%
蒸发源:2-3 组金属蒸发源
控制方式:PLC/PC(可选)
占地面积:主 L1000mm×W1200mm×H1900mm
总功率: 12kW
大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制 、/span>
1. 设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低:/span>
2. 设备配备多组蒸发源,兼容有机蒸发与无机蒸 , 多源共蒸获得复合膜。设计专业,功能强大,性能稳定:/span>
3. 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等、/span>
暂无数据
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