看了高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600的用户又看了
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设备型号:TEMD600
镀膜方式:E 型电子枪
真空腔室结构:立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统
真空腔室尺寸:?00mm×H750mm
加热温度:室温~ 300ℂ/span>
基片台尺寸:平板 Φ350mm,或球罩型基片台 ( 可 )
膜厚不均匀性: ±5.0%
考夫曼离子源:可逈/span>
蒸发源:电子 10KW,6穴坩埚,国产/进口(可选) 配2套电阻蒸
控制方式:PLC/PC(可选)
占地面积:L2500mm×W1600mm
总功率: 17kW
大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备、/span>
1. 设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低:/span>
2. 可用于生产线前期工艺试验等;
3. 实验室制备导电薄膜、半导体膜、光学薄膜等,可同手套箱复合使用、/span>
暂无数据
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