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产品特点
双反应台腔体设计
低电容耦合3D线圈设计
高抽速大容量涡轮泴/p>
双通道进气
精密的腔体温控和RF窗口温控系统
先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺多区动态温控静电吸盗/p>
13兆赫?00千赫脉冲偏压系统
可选的集成除胶反应腓/p>
离子浓度和离子能量独立可?/p>
高排气量和更宽的工艺窗口
优秀的刻蚀均匀?/p>
优异的高深宽比刻蚀性能
高生产效率，低生产成本（CoO（/p>
暂无数据
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移动?/p>
工商已核宝/p>
