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作为中微公司自主研发的产出效率高且性能优秀?2英寸CVD金属钨设备，Preforma Uniflex™CW可灵活配置多达五个双反应台的反应腔，每个反应腔皆能同时加工两片晶圆，在保证较低的生产成本和化学品消耗的同时，实现较高的生产效率。Preforma Uniflex™CW配备了完全拥有自主知识产权的优化混气方案,自主设计优化的分气抽气系统和真空卡盘，具有优秀的薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性，对于弯曲度较大的晶圆，它也具备良好的工艺处理能力。并且其优异的阶梯覆盖率和填充能力，可以满足先进逻辑器件、DRAM?D NAND中接触孔以及金属钨线的填充应用需求、/span>
双反应台及多达五个反应腔的系绞/span>
独立小巧的反应空闳/span>
高效灵活的工艺调节窗叢/span>
自主知识产权的优化混气方桇/span>
自主设计的优化气体分配的抽气系统
自主设计的优化真空卡盘的加热?/span>
高生产效率，低生产成本，低化学品消耖/span>
优秀的薄膜均一性和填充能力
优秀的工艺适应性和兼容?/span>
对弯曲度较大的晶圆也具有良好的工艺处理能劚/span>
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移动?/p>
工商已核宝/p>
