Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
报价9span>面议
品牌9/td> 中微公司
产地9/td> 上海
关注度: 242
型号9/td> Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
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产品介绍

产品特点

双反应台腔体设计

低电容耦合3D线圈设计

高抽速大容量涡轮泴/p>

双通道进气

精密的腔体温控和RF窗口温控系统

先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺多区动态温控静电吸盗/p>

13兆赫?00千赫脉冲偏压系统

可选的集成除胶反应腓/p>

竞争优势

离子浓度和离子能量独立可?/p>

高排气量和更宽的工艺窗口

优秀的刻蚀均匀?/p>

优异的高深宽比刻蚀性能

高生产效率,低生产成本(CoO(/p>


问商宵/div>
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中微半导体设备(上海)股份有限公司为您提供中微公司Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备,Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备产地为上海,属于半导体行业专用仪器,除了Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备、Primo D-RIE刻蚀设备、PRISMO HiT3® MOCVD设备
工商信息
企业名称

中微半导体设备(上海)股份有限公号/p>

企业类型

信用代码

913101157626272806

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