Primo D-RIE刻蚀设备
报价9span>面议
品牌9/td> 中微公司
产地9/td> 上海
关注度: 317
型号9/td> 刻蚀设备
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产品介绍

作为中微**代电介质刻蚀产品,Primo DRIE®?2英寸双反应台多反应腔主机系统,可灵活装置多达三个双反应台反应腔(六个反应台)。每个反应腔都可以同时加工两片晶圆。该设备运用了中微具有自主知识产权的创新技术,包括甚高频和低频混合射频去耦合反应等离子体源、等离子体隔离环、以及用于控制腔体内反应环境的先进工艺组件。Primo DRIE刻蚀设备可用于加工包括氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等所有的电介质材料。Primo DRIE?007年发布之后,由于其较低的生产成本、较高的生产效率和优异的芯片加工性能,已在国际主流芯片生产线上投入量产、/p>

产品特点

双反应台腔体设计具有更高的产出效玆/p>

双反应台独立射频系统和刻蚀终端控制系统

拥有自主知识产权的射频匹配系绞/p>

拥有自主知识产权的等离子体隔离技?/p>

竞争优势

高生产效率,低生产成本(CoO(/p>

设备占地面积導/p>

一体整合的除胶能力及表面电荷减除能力(Primo iDEA®系统(/p>


问商宵/div>
  • Primo D-RIE刻蚀设备的工作原理介绍?
  • Primo D-RIE刻蚀设备的使用方法?
  • Primo D-RIE刻蚀设备多少钱一台?
  • Primo D-RIE刻蚀设备使用的注意事顸/li>
  • Primo D-RIE刻蚀设备的说明书有吗>/li>
  • Primo D-RIE刻蚀设备的操作规程有吗?
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  • Primo D-RIE刻蚀设备有现货吗>/li>
  • Primo D-RIE刻蚀设备包安装吗>/li>
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中微半导体设备(上海)股份有限公司为您提供中微公司Primo D-RIE刻蚀设备,Primo D-RIE刻蚀设备产地为上海,属于半导体行业专用仪器,除了Primo D-RIE刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备、PRISMO HiT3® MOCVD设备、Preforma Uniflex CW薄膜设备
工商信息
企业名称

中微半导体设备(上海)股份有限公号/p>

企业类型

信用代码

913101157626272806

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