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Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备

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品牌９�/td>	中微公司
产地９�/td>	上海
关注度：	320
型号９�/td>	Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀产品

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产品介绍

Primo HD-RIE®是中微于2015年推出的新一代电介质刻蚀产品，是在Primo SSC AD-RIETM设计基础上实现的具有六个单反应台腔体的系统，定位于为中高深宽比刻蚀提供综合解决方案。该设备具有以下新特性：更高的同步脉冲射频功率、高功率高温静电托盘、气体脉冲、多区气体调节、可冷却聚焦环工艺组件和更稳定的上电极温度控制等。Primo HD-RIE�?D-NAND及DRAM中高深宽比沟槽及深孔刻蚀上表现优异，在一些关键制程上已实现量产、�/span>

Primo HD-RIE®

为NAND和DRAM芯片制造提供创新的刻蚀解决方案

产品特点

具有独立气体输运系统的单反应台腔体设讠�/p>

多区气体调节以及双区ESC温度控制

高功率以及高温静电吸盗�/p>

气体脉冲

双级同步脉冲射频系统，甚高功率的低频射频脉冲以提供高离子轰击能量

稳定的上电极温度控制系统

可冷却聚焦环以防止硅片边缘刻蚀停止

高上下电极面积比，以应用于中高深宽比刻蚀

竞争优势

高电介质材料刻蚀速率，多手段刻蚀均匀度调芁�/p>

高粒子轰击能量，以扩大高深宽比刻蚀工艺窗口

气体脉冲系统，提供更灵活的工艺控制方桇�/p>

应对特殊工艺的高温高功率静电吸盘选项

问商宵�/div>

Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备的工作原理介绍？
Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备的使用方法？
Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备多少钱一台？
Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备使用的注意事顸�/li>
Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备的说明书有吗＞�/li>
Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀设备的操作规程有吗？
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工商信息

企业名称

中微半导体设备（上海）股份有限公号�/p>

企业类型

信用代码

913101157626272806

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